日期:2012-04-17 09:58
氧化，由于简单盐体系中缺乏铁离子的稳定剂，因而溶液稳定性差，容易产生沉淀，维护困难，影响了大规模生产。相对于简单盐体系，配合物体系因含有稳定剂而大大增强了镀液的稳定性，但由于采用的稳定剂大多为有机化合物(如柠檬酸、酒石酸、氨基酸等)，在电沉积过程中容易产生大量的电分解产物，使溶液组分逐渐复杂而难以实现工艺参数的稳定控制，并且产生的杂质(如碳、硫)容易夹杂于合金箔中，影响合金箔的性能。针对上述2种体系的不足，本文采用无机物氟硼酸作为配位剂，既增强了镀液的稳定性，又不至于产生大量的分解产物。对于一般的因瓦