日期:2012-04-17 09:58
没有平坦剂的情况下，中铜镀层表面分布有大量过度生长的铜晶粒，这时候表面的粗糙度也最大。随着平坦剂含量的增加，镀层表面的铜晶粒数量明显减少。虽然仍可以看到极少数的晶粒隆但它们明显被平坦剂所包裹着，这时候已经接近平坦剂的最佳浓度。当平坦剂浓度很高时，镀层表面再度观察到铜晶粒的出现，而且除了表面的铜晶粒之外，镀层还有很明显的大面积表面凹陷。是对铜镀层表面粗糙度（方均根值，ＲＭＳ）的测量结果。可见，随着平坦剂浓度增加，铜镀层表面粗糙度先减小后增大，最小值不到１０纳米。由此可以预见，在平坦剂达到某一最佳浓