日期:2012-04-17 09:58
电化学工作站对不同添加剂成份的电镀液性能进行测试。工作电极为铂（直径０．２ｃｍ），对电极为铂丝，参比电极为饱和甘汞电极。电镀采用８英寸Ｐ型（１００）硅片，首先在硅片上ＰＥＣＶＤ（ＣｏｎｃｅｐｔＯｎｅ２００ｍｍＤｉｅｌｅｃｔｒｉｃＳｙｓｔｅｍ，Ｎｏｖｅｌｌｕｓ）淀积８００ｎｍＳｉＯ２介质层。接着用ＰＶＤ（Ｉｎｖｏａ２００，Ｎｏｖｅｌｌｕｓ）溅射２５ｎｍ的ＴａＮ／Ｔａ扩散阻挡层，再用ＰＶＤ溅射５０ｎｍ的Ｃｕ籽晶层。最后是电镀铜，为了便于比较，所有铜镀层厚度均为１μｍ。在电解槽中，阳极为高纯度的铜棒，