日期:2012-04-18 09:31
关 键 词：钴／幸自多层膜，铜，脉冲电沉积，相结构，磁性
作 者：吴琼，卫国英，余云丹，葛洪良
内容：
1前言近年来，C0／Pt多层膜由于具有强烈的垂直磁晶各向异性、高矫顽力和优异的化学稳定性而受到了人们的广泛关注，成为未来最有发展潜力的垂直磁记录材料之一[1-2]。大部分C0／Pt磁性薄膜都是通过分子束外延法、溅射法等物理方法制备，通常室温溅射态的C0／Pt薄膜为无序的fcc结构，表现为软磁特性，高温退火可以使fcc无序相向有序的Ll0相转变，进而表现出优良的硬磁性能[3-4]。电化学沉积法由于具有成本低廉，设备简单，对基底形状