日期:2012-04-18 09:31
，效果更好。马胜利等[25]选用硫酸基电解液对较高粗糙度(Ra=0．63～1．25μm)的纯金材料表面进行电化学抛光处理。溶液主要组成及工艺参数为：H2S048 mL／L添加剂OBA-13 mL／LOBA-28 mL／LJa2～10A／dm2U(阳极)2～9Vθ30～50℃t(抛光)0．5～5．0min阴阳极间距20～25 mnl阴阳极表面积比l0：l18．8不锈钢双阴极50mm×50 mm×3 mm结果表明，该电解液能使纯金表面粗糙度下降2级，并呈现鲜艳的金黄色外观，亮度也明显提高。将硫酸基电解液和氰化物型电解液对纯金的抛光效果进行对比，发现硫酸基电解液更适用于较高粗糙度(Ra=0．63～1．25μm)的纯