日期:2012-04-14 10:50
专利号(申请号)：200820081966.2
公开（公告）号：CN201169621
公开( 公告)日：2008-12-24
申请日：2008-01-09
申请（专利权）人：金梁
页 数：6
摘要：
一种真空电镀炉用支架，包括有纵向布置的主架，所述主架上设有与之相交固接的横杆，位于同一水平高度的若干横杆组成一排，所述横杆至少为上下两排；上排的横杆上设有上下贯通的通孔，下排横杆上对应通孔位置设有底部封口的凹槽，所述通孔与凹槽位于同一直线上。本实用新型通过在主架上固接横杆，上下横杆通过通孔和凹槽配合，使固定有锁体的夹具的主架上下端通过通孔和凹槽定位，操作